檢索結果：共3筆資料 檢索策略： "Hung-Fei Kuo".eadvisor (精準) and year="109"
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積體電路的飛速發展有賴於其中的關鍵製程微影技術不斷提高的工藝水平，而對準誤差(Overlay)作爲微影製程的重要指標因素，成爲需要不斷精進的控制對象，同時也需要做到愈發追求極緻的精準量測。目前，基於…
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近幾十年來半導體業廣泛應用微影技術將電路設計的圖形轉印至矽晶圓基板上，但隨著關鍵尺寸(Critical Dimension)的日漸微縮，物理的極限以及因越趨複雜的設計進而產生的曝光缺陷皆是製程上必須…
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現今印刷電路板(Printed Circuit Board, PCB)產業蓬勃發展，生產逐漸精密化且線寬越來越小，為了提升印刷電路板製程的品質，必須要進行有效率的檢測。傳統是以人工目視辨別印刷電路板…